洁净且具有良好导电性的样品表面对半导体器件的精确电学分析至关重要。
碳残留物、本征氧化层、吸附水分以及有机分子等污染物会显著降低探针接触质量和信号完整性。借助 SmarProbe 集成的表面清洁功能，这些污染层可被高效去除——包括硅表面的本征氧化层（如 SiO₂）。
为了确保无缝且不中断的纳米探测流程，可直接在探测位置进行原位清洁或氧化层去除，从而无需额外的样品制备步骤，并最大程度提升测量可靠性。
