超紫外线光刻技术

如果没有利用 EUV 光刻技术制造的最新一代集成电路，就不可能实现全球数字化的突破。无论是用 EUV 光处理晶片，还是对 EUV 掩膜等元件进行 EUV 计量，都需要超精密定位技术。系统通常在真空和高能辐射的恶劣环境中运行，只能选择有限的材料。 
我们的产品组合通过基于 SmarSLIDE 压电惯性驱动技术的定位系统以及复杂的 SmarBOTIC 平行运动学技术来应对这些挑战。这些系统结合了高度紧凑的占地面积和极高精度的优点，其材料完全符合 EUV 应用的特殊要求。