EUV-Lithographie
Der Durchbruch der weltweiten Digitalisierung wäre ohne die neueste Generation integrierter Schaltkreise, die mittels EUV-Lithographie hergestellt werden, nicht möglich. Sowohl die Bearbeitung von Wafern mit EUV-Licht als auch die EUV-Messtechnik für Komponenten wie EUV-Masken erfordern ultrapräzise Positioniertechnologie. Häufig werden Systeme in rauen Umgebungen mit Vakuum und hochenergetischer Strahlung betrieben, wodurch nur eine begrenzte Auswahl an Materialien möglich ist.
Unser Portfolio adressiert diese Herausforderungen mit Positioniersystemen auf Basis der SmarSLIDE-Piezo-Trägheitsantriebstechnologie sowie komplexer paralleler SmarBOTIC-Kinematik. Diese Systeme kombinieren die Vorteile einer sehr kompakten Bauform und extremer Präzision und bestehen aus Materialien, die optimal auf die besonderen Anforderungen von EUV-Anwendungen abgestimmt sind.
