Lösungen für die Lithographie-Maskenkorrektur

In der Lithographie, einer wesentlichen Technik für die Fertigung integrierter Schaltkreise, werden Strukturen bis hinunter in den Nanometerbereich von Photomasken auf Wafer übertragen. Jede Fehlausrichtung führt zu Fehlern in den Strukturen auf dem Wafer und damit zu defekten Bauelementen. Verschiedene Korrekturtechniken können dazu beitragen, Fehler im Lithographieprozess zu minimieren.
Wir bieten Positionierlösungen in Kombination mit Interferometrie von SmarAct Metrology, um die Position von Bauelementen mit nm-Genauigkeit in bis zu sechs Freiheitsgraden zu korrigieren. SMARFLEX-Piezoscanner mit Stellwegen von 200 µm sowie SMARSLIDE-Positionierer mit Piezo-Trägheitsantrieb bieten die erforderliche Präzision. Das Ergebnis ist eine perfekte Ausrichtung von Maske und Wafer zu jedem Zeitpunkt des Lithographieprozesses, um Bauelemente höchster Qualität sicherzustellen.